多模式光学表征干涉仪

发明者：
张志辉教授
理大工业及系统工程学系超精密加工与计量学讲座教授、超精密加工技术国家重点实验室主任

光学表征是确定光学系统或设备是否满足特定性能要求的关键所在，被广泛应用于许多工业领域。然而，绝大多数现有的光学表征仪器，只能测量某些特定工业领域的单一光学参数。

此项目研发了一套新型智能多模式光学表征干涉测量系统，以波前测 量及剪切干涉测量原理，判断会影响光学系统或组件性能的光学参数。MOCI提供多种测量功能，能以单一仪器评估多种光学特性，适应不同的应用场合，包括近视离焦眼镜片等验光产品的球镜度分布、柱镜度分布和散光轴。此外，系统还能评估超表面材料的相位分布、折射率和调制传递函数，以及半导体晶圆的表面粗糙度及平整度等。