多模式光學表徵干涉儀

發明者：
張志輝教授
理大工業及系統工程學系超精密加工與計量學講座教授、超精密加工技術國家重點實驗室主任

光學表徵是確定光學系統或設備是否滿足特定性能要求的關鍵所在，被廣泛應用於許多工業領域。然而，絕大多數現有的光學表徵儀器， 只能測量某些特定工業領域的單一光學參數。

此項目研發了一套新型智能多模式光學表徵干涉測量系統，以波前測量及剪切干涉測量原理，判斷會影響光學系統或元件性能的光學參數。MOCI提供多種測量功能，能以單一儀器評估多種光學特性，適應不同的應用場合，包括近視離焦眼鏡片等驗光產品的球鏡度分佈、柱鏡度分佈和散光軸。此外，系統還能評估超表面材料的相位分佈、 折射率和調製傳遞函數，以及半導體晶圓的表面粗糙度及平整度等。